💡 Resumen (TL;DR):
- El centro de investigación imec instaló la máquina de litografía TWINSCAN EXE:5200 de ASML en Bélgica.
- El equipo cuesta unos 400 millones de dólares y es uno de los menos de 10 que existen a nivel global.
- Su tecnología permite fabricar chips por debajo de los 2 nanómetros y reduce las tasas de defectos de fabricación.
El centro belga de investigación de semiconductores imec recibió esta semana una máquina de litografía High NA EUV fabricada por ASML, valuada en 400 millones de dólares. El equipo, del cual existen menos de 10 unidades en el mundo, se instalará en la sede de Leuven, Bélgica, para impulsar el desarrollo de nodos inferiores a los 2 nanómetros y estará totalmente calificado para el cuarto trimestre de 2026.
La High NA EUV es una tecnología de litografía extrema que permite imprimir patrones de circuitos microscópicos en obleas de silicio para procesadores de última generación.
Luc Van den hove, CEO de imec, enfatizó el impacto de esta instalación: “Fortalece el papel de Europa en el centro de la cadena de suministro global de semiconductores. Es esencial para la independencia estratégica y la soberanía tecnológica de Europa”.
El modelo TWINSCAN EXE:5200 incrementa la apertura numérica de 0.33 a 0.55. Este cambio técnico logra imprimir circuitos de hasta 8 nanómetros en una sola exposición, un proceso que exigía múltiples pasadas en máquinas más antiguas.
La carrera por el hardware de IA
La simplificación de procesos reducirá los costos de fabricación y las tasas de error en procesadores lógicos para inteligencia artificial y memoria de alto ancho de banda (HBM).
ASML es el único fabricante mundial de este equipo de litografía. Ante la preparación de la industria para producir la generación de chips de 1.4nm, el mercado muestra distintas posturas:
- Intel completó las pruebas de aceptación de la variante EXE:5200B a finales del año pasado.
- Samsung y SK Hynix usarán estas herramientas para fabricar memoria y chips lógicos a partir de 2027.
- TSMC proyecta una adopción más conservadora y podría postergar el uso de High NA hasta sus nodos A14 o A10 alrededor de 2028.
La instalación operará dentro de la iniciativa europea NanoIC como un campo de pruebas neutral. Esto garantiza que diversos fabricantes y sus proveedores puedan colaborar en un mismo ecosistema para resolver los retos de escalabilidad que exige el hardware del futuro.
